[实用新型]磁性吸附组件改良结构无效
| 申请号： | 200620049756.6 | 申请日： | 2006-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN2866158Y | 公开（公告）日： | 2007-02-07 |
| 发明（设计）人： | 吴泓志;范姜正良 | 申请（专利权）人： | 吴泓志;范姜正良 |
| 主分类号： | B42F1/02 | 分类号： | B42F1/02;H01F7/02 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 何为 |
| 地址： | 台湾省台北县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁性吸附组件改良结构，其至少具有二相对配置面，该二配置面分别定义为磁吸面及非磁吸面，使该磁吸面可吸附于另一具磁吸性材质表面形成定位，而于该非磁吸面两侧缘之间设有一容置凹槽，且该容置凹槽具有一宽度较窄的开口，可供挡止于一具预设图案或文字或标记的展示片二旁侧上方，使该展示片可稳固定位于该容置凹槽之中且其生产方式可降低生产成本，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 吸附 组件 改良 结构 | ||
【主权项】：
1.一种磁性吸附组件改良结构，其至少具有二相对配置的磁吸面及非磁吸面，在该非磁吸面的两侧缘之间设有一纵向延伸的容置凹槽，结合一展示片，其特征在于：该容置凹槽具有一宽度较窄的朝上开口，开口内缘可供挡止于嵌容在容置空间中的展示片的二旁侧，使展示片稳固定位于容置凹槽中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吴泓志;范姜正良，未经吴泓志;范姜正良许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200620049756.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
