[实用新型]投光仪定位锥二重石墨涂敷装置无效

专利信息
申请号: 200620079293.8 申请日: 2006-06-29
公开(公告)号: CN2919520Y 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: 丁民显;张青霞;曹建红 申请(专利权)人: 彩虹集团电子股份有限公司
主分类号: H01J9/20 分类号: H01J9/20;B05D5/12
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 张震国
地址: 71202*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种投光仪定位锥二重石墨涂敷装置,包括锥暂存支架以及设置在锥暂存支架下端的固定锥的夹紧定位装置,在锥暂存支架上端设置有立柱,在立柱上还安装有位置可调的高度调节杠杆,高度调节杠杆的前端还连接有横梁,横梁上铰接有投影装置。本实用新型借助小孔成像原理,在锥暂存支架上方设置有投影装置,通过高度调节杠杆和横梁调节投影装置的位置,使投影到锥石墨“二重涂敷”的规范位置,指导作业者直观、准确完成锥二重石墨涂敷。
搜索关键词: 投光仪 定位 二重 石墨 装置
【主权项】:
权利要求书1、一种投光仪定位锥二重石墨涂敷装置,包括锥暂存支架(1)以及设置在锥暂存支架(1)下端的固定锥的夹紧定位装置(2),其特征在于:在锥暂存支架(1)上端设置有立柱(3),在立柱(3)上还安装有位置可调的高度调节杠杆(4),高度调节杠杆(4)的前端还连接有横梁(5),横梁(5)上铰接有投影装置(6)。
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