[实用新型]一种改进结构的卷绕式真空镀膜装置无效

专利信息
申请号: 200620083333.6 申请日: 2006-04-20
公开(公告)号: CN2928872Y 公开(公告)日: 2007-08-01
发明(设计)人: 李正平 申请(专利权)人: 李正平
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 262500山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种改进结构的卷绕式真空镀膜装置,该装置具有真空蒸镀室[1],牵引辊[5],制动辊[4],以及一组引导辊[6]和[7],在靠近真空蒸镀室[1]的下部是一个蒸镀辊[10],其特征在于在蒸镀辊[10]的两侧具有一组弯辊[8]和/或者[9]。其优点是,由于弯辊的存在,使得在蒸镀辊[10]的位置被突然加热的被镀物质的受热膨胀后产生的横向力被本装置的弯辊产生的横向奋力抵消,从而保证了真空蒸镀薄膜材料在真空蒸镀室内的纵向和横向受力的基本均匀一致,从而保证了真空蒸镀薄膜的均匀和一致性。
搜索关键词: 一种 改进 结构 卷绕 真空镀膜 装置
【主权项】:
1、一种改进结构的卷绕式真空镀膜装置,该装置具有真空蒸镀室[1],牵引辊[5],制动辊[4],以及一组引导辊[6]和[7],在靠近真空蒸镀室[1]的下部是一个蒸镀辊[10],其特征在于在蒸镀辊[10]的两侧具有一组弯辊[8]和/或者[9]。
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