[实用新型]半导体反应室元件固定装置无效
| 申请号： | 200620112587.6 | 申请日： | 2006-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN2924787Y | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 郑意中;吕思汉;吴元胜;王进明;洪华骏 | 申请（专利权）人： | 力晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/3205;H01L21/67;C23C16/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体反应室元件固定装置包括：圆形顶板，适于通入反应气体至反应室内的半导体元件；三个支撑架，分别配置于所述圆形顶板外围的三个支撑点，以固定所述圆形顶板；以及闸式阀，提供所述半导体元件进出所述反应室的出入口，其中所述支撑架的任一皆不配置于所述半导体元件进出于所述反应室的所述闸式阀的路径上。该半导体反应室元件固定装置通过将固定圆形顶板(Shower head)的支撑架从晶片进出反应室的路径中移除，因此可以避免附着于支撑架上的微尘掉落，且由于支撑架以正三角形的三个顶点的方式配置，因此能够平均地支撑圆形顶板，达到有效改善晶片上带状缺陷的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 反应 元件 固定 装置 | ||
【主权项】：
1、一种半导体反应室元件固定装置，包括：圆形顶板，适于通入反应气体至反应室内的半导体元件；三个支撑架，分别配置于所述圆形顶板外围的三个支撑点，以固定所述圆形顶板；以及闸式阀，提供所述半导体元件进出所述反应室的出入口，其特征在于所述些支撑架的任一皆不配置于所述半导体元件进出于所述反应室的所述闸式阀的路径上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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