[实用新型]曝光机的基板支撑结构无效

专利信息
申请号: 200620117021.2 申请日: 2006-06-02
公开(公告)号: CN2919303Y 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: 陈昱东;杨天宏 申请(专利权)人: 广辉电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02F1/1333
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 杨俊波
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型有关于一种曝光机的基板支撑结构,可避免曝光机上的基板承载平台因为长期使用所累积的静电,使基板因静电效应而在取出时移位造成破片。本实用新型的曝光机的基板支撑结构,包括:一具有复数个支撑垫的平台;一具有一驱动杆与复数个基板支撑顶针的基座,且基板支撑顶针用以支撑或承接基板;以及至少二个基板支撑挡板,其设置的距离小于基板的最大边长;且基板支撑挡板高度小于基板支撑顶针的高度。当基板因平台上的静电效应发生下弯或变形,基板会与基板支撑挡板的一顶面接触,减低基板因静电效应发生的弯曲或变形。
搜索关键词: 曝光 支撑 结构
【主权项】:
权利要求书1.一种曝光机的基板支撑结构,配合一基板,其特征在于,包括:一具有复数个支撑垫的平台,所述复数个支撑垫用以支撑或承接该配合的基板,以使该基板与该平台保持一间距;一具有一驱动杆与复数个基板支撑顶针的基座,其中该驱动杆连结该平台,并驱动该平台的升降,且所述复数个基板支撑顶针用以支撑或承接该基板;以及至少二个基板支撑档板,设置于该基座上任二个该基板支撑顶针之间;所述这些基板支撑档板设置的距离小于该基板的最大边长;且所述这些基板支撑档板高度小于所述复数个基板支撑顶针的高度。
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