[实用新型]光掩模盒无效
申请号: | 200620121326.0 | 申请日: | 2006-06-22 |
公开(公告)号: | CN2924591Y | 公开(公告)日: | 2007-07-18 |
发明(设计)人: | 朱福盛;杜德洪 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陈小雯;李晓舒 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开一种光掩模盒,此光掩模盒包括盒体、上盖与前盖。盒体包括底板、第一侧板、第二侧板、第三侧板、第一定位板与第二定位板。第一侧板与第二侧板相对配置于底板上。第三侧板配置于底板上且连接第一侧板与第二侧板。第一定位板与第二定位板配置于第一侧板与第二侧板之间的底板上,且分别位于第一侧板与第二侧板旁。第一定位板具有第一沟槽,而第二定位板具有第二沟槽。第二沟槽与第一沟槽相对,且第一沟槽与第二沟槽的延伸方向垂直于底板。上盖与盒体枢接。前盖与上盖枢接。 | ||
搜索关键词: | 光掩模盒 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模盒,该光掩模盒包括:一盒体;一上盖,与该盒体枢接;以及一前盖,与该上盖枢接,其特征在于,该盒体包括:一底板;一第一侧板与一第二侧板,相对配置于该底板上;一第三侧板,配置于该底板上且连接该第一侧板与该第二侧板;以及一第一定位板与一第二定位板,配置于该第一侧板与该第二侧板之间的该底板上,且分别位于该第一侧板与该第二侧板旁,其中该第一定位板具有一第一沟槽,而该第二定位板具有一第二沟槽,该第二沟槽与该第一沟槽相对,且该第一沟槽与该第二沟槽的延伸方向垂直于该底板。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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