[实用新型]光掩模盒无效

专利信息
申请号: 200620121326.0 申请日: 2006-06-22
公开(公告)号: CN2924591Y 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 朱福盛;杜德洪 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陈小雯;李晓舒
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型公开一种光掩模盒,此光掩模盒包括盒体、上盖与前盖。盒体包括底板、第一侧板、第二侧板、第三侧板、第一定位板与第二定位板。第一侧板与第二侧板相对配置于底板上。第三侧板配置于底板上且连接第一侧板与第二侧板。第一定位板与第二定位板配置于第一侧板与第二侧板之间的底板上,且分别位于第一侧板与第二侧板旁。第一定位板具有第一沟槽,而第二定位板具有第二沟槽。第二沟槽与第一沟槽相对,且第一沟槽与第二沟槽的延伸方向垂直于底板。上盖与盒体枢接。前盖与上盖枢接。
搜索关键词: 光掩模盒
【主权项】:
1.一种光掩模盒,该光掩模盒包括:一盒体;一上盖,与该盒体枢接;以及一前盖,与该上盖枢接,其特征在于,该盒体包括:一底板;一第一侧板与一第二侧板,相对配置于该底板上;一第三侧板,配置于该底板上且连接该第一侧板与该第二侧板;以及一第一定位板与一第二定位板,配置于该第一侧板与该第二侧板之间的该底板上,且分别位于该第一侧板与该第二侧板旁,其中该第一定位板具有一第一沟槽,而该第二定位板具有一第二沟槽,该第二沟槽与该第一沟槽相对,且该第一沟槽与该第二沟槽的延伸方向垂直于该底板。
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