[实用新型]一种用于生成化合物材料薄膜的源装置无效
| 申请号： | 200620152796.3 | 申请日： | 2006-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN200985344Y | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 王晓光 | 申请（专利权）人： | 沈阳华迅真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/34;C23C14/24 |
| 代理公司： | 沈阳东大专利代理有限公司 | 代理人： | 李运萍 |
| 地址： | 110168辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种用于生成化合物材料薄膜的源装置，属于真空技术领域。其结构包括真空法兰、气体活化源及粒子源，气体活化源一端连接有气体活化源用气体管，气体活化源另一端设有粒子源，在粒子源与气体活化源之间沿粒子源轴线设有外延管路。本实用新型的有益效果：可以将使用金属或非金属粒子源和气体活化源为材料源形成化合物过程中，金属或非金属粒子和活化气体粒子的有效化合碰撞最大化；增大粒子间的化合程度，同时可以使金属或非金属粒子和活化气体粒子形成化合物薄膜的成膜过程更容易地进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 生成 化合物 材料 薄膜 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于生成化合物材料薄膜的源装置，包括真空法兰、气体活化源及粒子源，气体活化源一端连接有气体活化源用气体管，其特征在于气体活化源另一端设有粒子源，在粒子源与气体活化源之间沿粒子源轴线设有外延管路。
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