[实用新型]一种用于高灵敏氦质谱检漏仪的聚焦离子源无效

专利信息
申请号: 200620172514.6 申请日: 2006-12-22
公开(公告)号: CN201075369Y 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 付德君;黎明;刘家瑞;刘传胜 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H01J49/10 分类号: H01J49/10
代理公司: 武汉华旭知识产权事务所 代理人: 江钊芳
地址: 43007*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及一种用于高灵敏氦质谱检漏仪的聚焦离子源,由检漏口①、发射针腔②、钨针③、纳米针尖④、引出极⑤、聚焦极⑥和电路系统⑦组成,其特征在于钨针的尖端直径只有5~10μm,在钨针尖上还有纳米针尖,钨针置于发射针腔中,纳米针尖加正偏压、引出极加负电压,形成强电场,气体在检漏口进入发射针腔后向纳米针尖流动,在纳米针尖周围离化成离子,经引出极及电场引出到聚焦极,形成较强的聚集离子束流。本实用新型聚焦离子源具有聚焦好,灵敏度高,常温低温发射等优点,适用作各种高灵敏氦质谱检漏仪的离子源。
搜索关键词: 一种 用于 灵敏 氦质谱 检漏 聚焦 离子源
【主权项】:
1.一种用于高灵敏氦质谱检漏仪的聚焦离子源,由检漏口①、发射针腔②、钨针③、引出极⑤、聚焦极⑥和电路系统⑦组成,其特征在于钨针③直径为0.45~0.55mm,钨针的尖端直径为5~10μm,钨针尖上还有纳米针尖④,钨针置于发射针腔②中,发射针腔与检漏口相连,纳米针尖接正偏压、引出极接负电压。
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