[发明专利]氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料有效
| 申请号： | 200680000046.7 | 申请日： | 2006-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101006153A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 鲁埈硕;吴明焕;金长烈;金钟泌;曹升范 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于选择性抛光各种SiO2膜和SiO2－Si3N4膜的氧化铈研磨剂；以及包含该研磨剂的浆料。由于采用具有六方晶体结构的六方碳酸铈作为铈的原料合成具有5nm或更小平均晶体粒度的多晶氧化铈，所以本发明的氧化铈研磨剂和抛光浆料具有高抛光速度，并且在抛光时抛光表面也无微痕。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 研磨剂 以及 包含 浆料 | ||
【主权项】：
1、一种多晶氧化铈粉末，其特征在于，该粉末采用具有六方晶体结构的碳酸铈作为原料进行塑化，并且由平均粒度小于5nm的初始晶体颗粒组成，该粉末具有30-1000nm的平均粒度。
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