[发明专利]等离子处理装置有效

专利信息
申请号: 200680000112.0 申请日: 2006-02-10
公开(公告)号: CN1943012A 公开(公告)日: 2007-04-04
发明(设计)人: 是永哲雄;永留隆二 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/677;H01J37/32;H05K13/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 王冉;王景刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在通过将衬底(11)容纳在处理腔(6)中而实现等离子处理的等离子处理装置中,由陶瓷制成的固定引导件(12)和可移动引导件(13)沿Y方向(沿衬底运输方向)排列,以引导保持在陶瓷制成的安装板(10)上的衬底的两个侧端部,并且可移动引导件(13)的两个端部由支撑构件支撑。在该构造中,这些支撑构件安装到沿Y方向布置的固定构件(15A和15B)上,安装板(10)设置在所述固定构件(15A和15B)之间,从而Y方向上的间距可调整。因此,陶瓷制成的引导构件(13)可以安装和拆卸,而不需要直接对其进行螺栓连接,并且可以通过将具有不同宽度尺寸的多产品薄类型衬底用作目标来防止产生不正常放电。
搜索关键词: 等离子 处理 装置
【主权项】:
1、一种用于在处理腔中对衬底表面进行等离子处理的等离子处理装置,其包括:基部,其形成所述处理腔的底部;箱形构件,其下表面侧敞开,并且下端部抵靠在所述基部顶部上的基部表面上,以形成所述处理腔;电极部,其经由绝缘体安装在所述基部上,并且其上表面暴露在所述处理腔中;衬底安装部,该衬底安装部构成所述电极部的上部并且其上表面由陶瓷覆盖;等离子产生装置,其产生用于在所述处理腔中等离子处理的等离子;多个条形陶瓷引导构件,其沿衬底运输方向设置在所述衬底安装部的上表面上,并且适于引导安装于所述衬底安装部上的衬底的侧端表面;以及引导构件保持装置,其用于保持所述引导构件的纵向两个端部,其中所述引导构件保持装置包括:一对固定构件,该一对固定构件沿与所述衬底运输方向成直角的横向方向沿所述衬底安装部的外边缘固定地设置在所述基部上,多个支撑构件,其在所述衬底运输方向上的位置由所述固定构件定位,并且所述多个支撑构件适于支撑所述引导构件的两个端部,以及安装装置,该安装装置用于将所述多个支撑构件安装在所述固定构件上,以使得横向上的间距可调整。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680000112.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top