[发明专利]PDP滤光器以及使用完全蚀刻的电磁干扰膜制造该滤光器的方法无效
| 申请号： | 200680000182.6 | 申请日： | 2006-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101006543A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 李东郁;李渊槿;黄仁晳;金承旭 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | H01J17/49 | 分类号： | H01J17/49;H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种PDP滤光器以及一种使用完全蚀刻的电磁干扰膜制造该滤光器的方法，更具体地说，涉及一种PDP滤光器及其制造方法，其中消除了蚀刻部分与非蚀刻部分的结合。本发明通过将电磁干扰膜的整个表面蚀刻以形成不包括接地部分(非蚀刻部分)的有效屏幕部分(蚀刻部分)而完成。具有上述结构的电磁干扰膜卷在仅沿进料辊的卷绕方向切割成小尺寸时，可通过卷对卷方法将其与其它功能膜层压以制得需要时可切割成所需尺寸的EMI膜，从而即使PDP的有效屏幕尺寸改变，该EMI膜仍可适用。 | ||
| 搜索关键词： | pdp 滤光 以及 使用 完全 蚀刻 电磁 干扰 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种使用完全蚀刻的电磁干扰膜的PDP滤光器，该滤光器通过电磁干扰膜与至少一种其它功能膜层压而形成，其中将所述电磁干扰膜的整个表面蚀刻以使由有效屏幕部分构成的区域扩大至所述电磁干扰膜的整个表面。
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