[发明专利]光学功能薄膜的制造方法、光学功能薄膜、偏振片、光学元件和图像显示装置无效
申请号: | 200680000997.4 | 申请日: | 2006-08-23 |
公开(公告)号: | CN101039759A | 公开(公告)日: | 2007-09-19 |
发明(设计)人: | 近藤诚司;吉田健太郎;长竹涉;芝田祥司 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B05D7/04 | 分类号: | B05D7/04;C08J5/18;B05D1/26;G02B5/30;B05D7/24 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光学功能薄膜的制造方法,其是具备聚酰亚胺层的光学功能薄膜的制造方法,其特征在于,包括:利用具有上游侧模唇和下游侧模唇的模涂机,将含有聚酰亚胺且粘度γ为100<γ<3000mPa·s的涂敷液涂敷在基材薄膜上而在该基材薄膜上形成聚酰亚胺层的涂敷工序;当设所述上游侧模唇的前端和所述基材薄膜的距离为D1,所述下游侧模唇的前端和所述基材薄膜的距离为D2时,D2≥50μm,且0<D1-D2≤200μm。 | ||
搜索关键词: | 光学 功能 薄膜 制造 方法 偏振 元件 图像 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学功能薄膜的制造方法,其是具备聚酰亚胺层的光学功能薄膜的制造方法,其特征在于,包括:利用具有上游侧模唇和下游侧模唇的模涂机,将含有聚酰亚胺且粘度γ为100<γ<3000mPa·s的涂敷液涂敷在基材薄膜上而在该基材薄膜上形成聚酰亚胺层的涂敷工序,在将所述上游侧模唇的前端和所述基材薄膜的距离设为D1,将所述下游侧模唇的前端和所述基材薄膜的距离设为D2时,D2≥50μm,且0<D1-D2≤200μm。
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