[发明专利]图像处理装置、掩模作成方法以及程序有效

专利信息
申请号: 200680001172.4 申请日: 2006-08-31
公开(公告)号: CN101052989A 公开(公告)日: 2007-10-10
发明(设计)人: 阿部博 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00;G06T3/00;G06T7/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;权鲜枝
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种能够以简单的处理来作成掩模处理的图像处理装置和掩模作成方法以及在这种图像处理装置中执行的程序。提取图像的边缘,从提取了边缘的图像中提取对应于被摄体轮廓的像素的列,根据其近似线获取用于掩模处理的边界线。
搜索关键词: 图像 处理 装置 作成 方法 以及 程序
【主权项】:
1.一种图像处理装置,作成从图像中切出规定的被摄体的像的掩模,该图像处理装置具有:边缘提取部,其提取上述图像的边缘;像素提取部,其从在上述边缘提取部中提取出的边缘中提取第1像素的列和第2像素的列,其中,上述第1像素的列包含在与通过上述被摄体的像的内部地设定在上述图像的平面上的第1基准直线相接的第1区域中,位于在上述图像的平面上设定的平行的多个第2基准直线上,且在上述多个第2基准直线的各个上最接近上述第1基准直线;上述第2像素的列包含在上述第1区域的相反侧的与上述第1基准直线相接的第2区域中,位于上述多个第2基准直线上,且在上述多个第2基准直线的各个上最接近上述第1基准直线;第1中间点提取部,其提取中间点的列,该中间点的列在上述多个第2基准直线的各个上位于上述第1像素与上述第2像素之间,且离该第1像素的距离与离该第2像素的距离具有规定的比;划分部,其将在上述第1中间点提取部中提取出的中间点的列划分为相邻的中间点彼此在规定距离内的至少一个区间;近似线获取部,其根据形成由上述划分部划分的最长区间的中间点,获取在上述第1中间点提取部中提取出的中间点的列的近似线;第2中间点提取部,其提取在上述第1中间点提取部中提取出的中间点之中与在上述近似线获取部中获取的近似线之间的误差在规定的范围内的中间点的列;以及第1边界线获取部,其根据与在上述第2中间点提取部中提取出的中间点的列位于相同的第2基准直线上的第1像素的列的近似线,获取上述掩模的第1边界线,根据位于该第2基准直线上的第2像素的列的近似线,获取上述掩模的第2边界线。
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