[发明专利]能够在低温度下使液体原料气化的液体原料的气化方法与采用了该方法的气化器

摘要

本发明的课题在于提供能在低温下将供于CVD装置中成膜的液体原料气化的气化器。气化器(10)具有：被加热器(66)、(76)及(81)加热的气化室(60)，配置在气化室(60)的下端部、被加热器(81)加热的一次过滤器(80)，从气化室(60)的上方向一次过滤器(80)滴下流量调节后的液体原料(LM)的液体原料供给部(24)，向一次过滤器(80)的下面导入载气(CG)的载气导入流路(78)，和从气化室(60)的上部排出载气(CG)与气化的液体原料(VM)的混合气(VM+CG)的原料导出流路(62)。滴到一次过滤器(80)上的液体原料(LM)一部分被气化，又受到来自下方的载气(CG)产生的鼓泡作用而成为雾状。由于雾的表面积比非雾状态大，故液体原料(LM)能高效率地受热，能在低温下将液体原料(LM)气化。

主权项

1.液体原料的气化方法，其特征在于，向配置在被加热器加热的气化室的下端部的一次过滤器的下面导入载气，向前述一次过滤器滴下或流下流量调节后的液体原料，将前述液体原料在前述一次过滤器与前述液体原料的润湿面利用来自加热器的热进行气化，同时通过与前述载气混合而雾化，使气化和雾化的前述液体原料随前述载气一起从前述气化室的上部排出。