[发明专利]气体处理方法和计算机可读取的存储介质有效
申请号: | 200680002702.7 | 申请日: | 2006-06-20 |
公开(公告)号: | CN101107379A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | 成嶋健索;若林哲 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36;C23C8/24;C23C16/56 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种气体处理方法,使用气体处理装置,利用含有NH3气体和H2气体的气体对被处理体(W)进行气体处理,所述气体处理装置具备:收容被处理基板的腔室;配置在腔室内的喷淋头;向腔室内供给含有NH3气体和H2气体的气体的气体供给单元,腔室的覆盖层和喷淋头含有镍(Ni)。通过控制H2/NH3流量比和温度,抑制腔室的覆盖层和喷淋头中含有的镍的反应。 | ||
搜索关键词: | 气体 处理 方法 计算机 读取 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种气体处理方法,其特征在于,在至少表面含镍(Ni)的高温部件的存在下,利用含有NH3气体和H2气体的气体对被处理体进行气体处理,控制H2/NH3流量比和所述部件的温度而抑制所述部件的镍的反应。
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