[发明专利]气体处理方法和计算机可读取的存储介质有效

专利信息
申请号: 200680002702.7 申请日: 2006-06-20
公开(公告)号: CN101107379A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 成嶋健索;若林哲 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36;C23C8/24;C23C16/56
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种气体处理方法,使用气体处理装置,利用含有NH3气体和H2气体的气体对被处理体(W)进行气体处理,所述气体处理装置具备:收容被处理基板的腔室;配置在腔室内的喷淋头;向腔室内供给含有NH3气体和H2气体的气体的气体供给单元,腔室的覆盖层和喷淋头含有镍(Ni)。通过控制H2/NH3流量比和温度,抑制腔室的覆盖层和喷淋头中含有的镍的反应。
搜索关键词: 气体 处理 方法 计算机 读取 存储 介质
【主权项】:
1.一种气体处理方法,其特征在于,在至少表面含镍(Ni)的高温部件的存在下,利用含有NH3气体和H2气体的气体对被处理体进行气体处理,控制H2/NH3流量比和所述部件的温度而抑制所述部件的镍的反应。
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