[发明专利]透明导电膜淀积设备、用于多层透明导电膜的连续形成的膜淀积设备及其形成方法

摘要

节省原料并增加膜淀积速度，同时保持膜的均匀度和较高的膜质量。提供一种用于多层透明导电膜的连续形成的膜淀积设备，其包括：基板附着部分；装料部分，在此执行抽空；多层淀积处理部分，其包括两个或更多淀积处理部分，用于通过在汽相下对有机金属化合物(乙二酸锌)、乙硼烷和水进行反应，利用MOCVD方法在基板上形成透明导电膜；基板取出部分；基板分离部分；以及定位器返回部分，在这里将基板定位器返回到基板附着部分。在将基板顺序地移动通过这些部分的同时接连地执行膜淀积。每个淀积处理部分设有用于喷射有机金属化合物、乙二酸锌和水的喷管以及设有用于对该喷管冷却的冷却机构。

主权项

1.一种具有膜淀积腔室的透明导电膜淀积设备，其中在抽空该腔室之后，在对基板进行加热的同时，利用金属有机化学汽相淀积(MOCVD)方法，将有机金属化合物(烷基锌Zn(CnH2n+1；n是整数)2，优选地为二乙基锌Zn(C2H5)2)、乙硼烷(B2H6)以及水(水汽)在汽相下进行反应，从而在基板上形成包括n型半导体的透明导电膜，其中使用乙硼烷和惰性气体分别作为电导率调节的掺杂剂和载气，以及使用有机金属化合物和纯水作为用于膜淀积的原料，并且在该设备内部设有一组板状构造的喷管，其包括管形喷管，这些喷管具有在其喷射侧上形成的喷射孔，用于同时地或分开地喷射包括有机金属化合物、乙硼烷和纯水的三种原料，并且这些喷管布置为在同一个平面内彼此相邻，且在它们之间不留下间隔，并且该设备进一步设有对该组喷管进行冷却的喷管冷却机构。