[发明专利]薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 200680003206.3 | 申请日： | 2006-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN101198906A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | 铃木贵子;田中健;米村幸治;藤田正一 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/40;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物，其特征在于该薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物包含：具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱溶解性增加的树脂成分(A)、通过照射放射线产生酸的酸产生剂成分(B)和具有放射线吸收能力的化合物(C)，其中，所述树脂成分(A)具有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)和所述结构单元(a1)的羟基的氢原子被酸解离性溶解抑制基团取代的结构单元(a2)，所述酸解离性溶解抑制基团含有上述通式(Ⅱ)表示的酸解离性溶解抑制基团(Ⅱ)为主要成分。式中，X表示脂肪族环式基团、芳香族环式烃基或碳原子数为1～5的烷基，R1表示碳原子数为1～5的烷基，或X和R1也可以各自独立地表示碳原子数为1～5的亚烷基且X的末端与R1的末端键合，R2表示碳原子数为1～5的烷基或氢原子。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 植入 法用正型抗蚀剂 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物，其特征在于包含：具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱溶解性增加的树脂成分(A)、通过照射放射线产生酸的酸产生剂成分(B)和具有放射线吸收能力的化合物(C)，其中，所述树脂成分(A)具有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)和该结构单元(a1)中羟基的氢原子被酸解离性溶解抑制基团取代的结构单元(a2)，所述酸解离性溶解抑制基团中作为主要成分含有下述通式(II)表示的酸解离性溶解抑制基团(II)，式中，X表示脂肪族环式基团、芳香族环式烃基或碳原子数为1～5的烷基，R1表示碳原子数为1～5的烷基，或X和R1也可以各自独立地表示碳原子数为1～5的亚烷基且X的末端与R1的末端键合，R2表示碳原子数为1～5的烷基或氢原子。
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