[发明专利]正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法有效
| 申请号： | 200680003225.6 | 申请日： | 2006-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN101107567A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 竹下优 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性增大的树脂成分(A)和通过曝光产生酸的酸产生剂成分(B)，其中上述树脂成分(A)是共聚物(A1)和共聚物(A2)的混合物，所述共聚物(A1)具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的丙烯酸酯的结构单元(a1)、衍生自含有含内酯单环式基的甲基丙烯酸酯的结构单元(a2)和衍生自含有含极性基多环式基的丙烯酸酯的结构单元(a3)，所述共聚物(A2)具有不同于上述共聚物(A1)的结构，而且亲水性低于上述共聚物(A1)。 | ||
| 搜索关键词： | 正型抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正型抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性增大的树脂成分(A)和通过曝光产生酸的酸产生剂成分(B)，所述树脂成分(A)是共聚物(A1)和共聚物(A2)的混合物，所述共聚物(A1)具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的丙烯酸酯的结构单元(a1)、衍生自含有含内酯的单环式基的甲基丙烯酸酯的结构单元(a2)和衍生自含有含极性基的多环式基的丙烯酸酯的结构单元(a3)，所述共聚物(A2)具有不同于所述共聚物(A1)的结构，而且亲水性低于所述共聚物(A1)。
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