[发明专利]使导电层图形化的方法、制备偏振片的方法以及使用该方法制备的偏振片有效
| 申请号： | 200680004176.8 | 申请日： | 2006-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101116018A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 金德柱;韩尚澈;金钟勋 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种使导电层图形化的方法，一种使用该方法制备偏振片的方法和使用所述制备偏振片的方法制备的偏振片，以及具有该偏振片的显示器件。所述使导电层图形化的方法包括(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起，以及(b)在树脂层上涂敷导电填充材料，从而利用图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图形。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 图形 方法 制备 偏振 以及 使用 | ||
【主权项】：
1.一种使导电层图形化的方法，其包括：(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起；以及(b)在所述树脂层上涂敷导电填充材料，从而利用所述图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图形。
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