[发明专利]图像曝光装置无效
申请号: | 200680004549.1 | 申请日: | 2006-02-08 |
公开(公告)号: | CN101120285A | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
发明(设计)人: | 石井秀一;木村宏一;角克人;石川弘美;大森利彦 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B26/08 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种图像曝光装置,在装置中感光材料由空间光调制器调制的光曝光,其能获得高的光利用效率和消光比。在图像曝光装置中,包括具有多个反射像素部的两维设置的空间光调制器(50),如DMD,每一个像素部调制照射在其上的光;将光(B)照射到空间光调制器(50)上的光源(66);以及将由经由空间光调制器(50)透射的光(B)所代表的图像聚焦到感光材料(150)上,每一个像素部(例如,DMD的微镜)制成类似凹面镜或凸面镜的形状,会聚用于图像曝光的光(B)。 | ||
搜索关键词: | 图像 曝光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种图像曝光装置,包括:空间光调制器,其具有多个并排设置的反射像素部,每一个像素部用于根据控制信号调制照射在其上的光;光源,用于将光照射到空间光调制器上;以及成像光学系统,用于将由空间光调制器调制的光所表示的图像聚焦到感光材料上;其中空间光调制器的每一个像素部被制成类似凹面镜或凸面镜的形状。
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