[发明专利]光学记录介质和用该介质的记录和重现方法无效
| 申请号： | 200680004824.X | 申请日： | 2006-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101128875A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 三浦博;丰岛伸朗;林嘉隆;三宫俊;岩田周行 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/005;G11B7/0045;G11B7/243 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王景刚;王冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种光学记录介质，其包含：层状结构，包括包含相变材料的第一可变形材料层，其在记录波长下吸收光以发热且经历发热熔化和变形；和包含一种材料的第二可变形材料层，该材料包含透射光且经历热变形和改变的氧化硅(SiOx；0＜x≤2)。在记录信息之后，第一可变形材料层的厚度根据记录的信息而改变，使得记录的标记的中心比端部厚，且基于记录的信息，第二可变形材料层对应于在第一可变形材料层上形成的凹凸图案被变形和改变，且当重现信息时，第一可变形材料层从固态改变到熔化态。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 重现 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录介质，包含：层状结构，包括包含相变材料的第一可变形材料层，其在记录波长下吸收光以发热且经历发热熔化和变形；和包含一种材料的第二可变形材料层，该材料包含透射光且经历热变形和改变的氧化硅(SiOx；0＜x≤2)，其中在记录信息之后，第一可变形材料层的厚度根据记录的信息而改变，使得记录的标记的中心比端部厚，且基于记录的信息，第二可变形材料层对应于在第一可变形材料层上形成的凹凸图案被变形和改变，且其中当重现信息时第一可变形材料层从固态改变到熔化态。
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