[发明专利]碳青霉烯衍生物的制备方法及其中间体结晶有效
| 申请号： | 200680004890.7 | 申请日： | 2006-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101119997A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 上仲正朗;保积靖之;野口耕一;小紫唯史 | 申请（专利权）人： | 盐野义制药株式会社 |
| 主分类号： | C07D477/00 | 分类号： | C07D477/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供对工业制备方法有利的碳青霉烯合成中间体。提供以使化合物(III)和化合物(IV)在仲胺的存在下反应为特征的化合物(I)、其可药用盐、其溶剂化物或它们的结晶的制备方法以及化合物(I)的苯甲醇合物结晶等。提供化合物(I)的通过Pd催化剂进行的脱保护法以及化合物(IV)等的结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 青霉 衍生物 制备 方法 及其 中间体 结晶 | ||
【主权项】：
1.下式所示的化合物(I)、其可药用盐、其溶剂化物或它们的结晶的制备方法，[化3]![]()
式中，R1为羧基保护基团；R2为氨基保护基团；其特征在于，使式(III)所示的化合物(III)与式(IV)所示的化合物(IV)或其可药用盐在仲胺的存在下反应，然后根据需要将羟基保护基团脱保护，[化1]![]()
式中，R为氢原子或羟基保护基团；R1为羧基保护基团；Ph为苯基；[化2]![]()
式中，R2为氨基保护基团。
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