[发明专利]透光性导电膜、透光性电磁波屏蔽膜、滤光器和制造显示过滤器的方法无效

专利信息
申请号: 200680005054.0 申请日: 2006-02-15
公开(公告)号: CN101120626A 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 冈崎贤太郎;森本哲光;冈村友之;北河敏久;诸桥慎;伊藤智章;南裕巳 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社;三井化学株式会社
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;B32B7/02;B32B15/08;G09F9/00;H01B5/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种透光性导电膜,其通过在透明支持体上图案化导电金属部和可见光透过部而形成,其中所述导电金属部由尺寸1μm-40μm的形成网状的细线构成,所述网状图案连续3m或更长。一种制造显示过滤器的方法,其中彼此相对的至少两个面的端部是网状,所述方法包括使用电磁波屏蔽材料(C),其中在聚合物薄膜(A)的一面上沿聚合物薄膜(A)的机械加工方向连续形成具有几何图案的网状导电部的导电层(B),和切割所述网状导电部。
搜索关键词: 透光 导电 电磁波 屏蔽 滤光 制造 显示 过滤器 方法
【主权项】:
1.一种透光性导电膜,其通过在透明支持体上图案化导电金属部和可见光透过部而形成,其中所述导电金属部由尺寸1μm-40μm的形成网状的细线构成,所述网状图案连续3m或更长。
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