[发明专利]等离子体处理装置中的处理信息管理有效

专利信息
申请号: 200680005403.9 申请日: 2006-02-16
公开(公告)号: CN101310281A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 查德·R·威特曼;黄忠河;杰奎琳·塞托;约翰·詹森 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: G06F19/00 分类号: G06F19/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余刚;尚志峰
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于管理衬底处理数据的计算机执行方法。当在组合装置的等离子体处理室中处理衬底时获取衬底处理数据。该方法包括接收用于识别衬底的标识和过程中的至少一个的元数据。该方法还包括从传感器接收多个处理数据流,处理数据流中的每一个都与正被监测的工艺参数有关。根据第一方法和第二方法中的一种收集在每个处理数据流中的独立数据项。第一方法表示时间上周期性的数据收集。第二方法表示当预定事件发生时的数据收集。该方法也包括将与处理数据流相关的独立数据项存储在单个文件中。该单个文件仅存储与用于处理衬底的单个配方有关的数据。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 中的 信息管理
【主权项】:
1.一种在衬底处理环境中,用于管理衬底处理数据的计算机执行方法,当在组合装置的等离子体处理室中处理衬底时获取所述衬底处理数据,包括:接收元数据,所述元数据用于识别所述衬底的标识和工艺中的至少一个;从多个传感器中接收多个处理数据流,所述多个处理数据流中的每一个都与正被监测的工艺参数有关,根据第一种方法和第二种方法中的一种收集所述多个处理数据流中的每一个中的独立数据项,所述第一种方法表示时间上周期性的数据收集,所述第二种方法表示在预定事件发生时进行的数据收集;以及将与所述多个处理数据流相关的所述独立数据项存储在单个文件中,所述单个文件仅存储与用于处理所述衬底的单个配方有关的所述衬底处理数据。
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