[发明专利]光敏平版印刷版及其制造方法有效
| 申请号： | 200680006782.3 | 申请日： | 2006-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101132916A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 神谷洁;成冈泰彦 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B41C1/10 | 分类号： | B41C1/10;B41N1/08;B41N1/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种能够避免质量缺陷例如残膜等并提高产率的光敏平版印刷版及其制造方法。与PS版的边缘部分相对应的区域的涂层被预先通过涂层去除清除。因此，由切割幅片时的压力形成的压力模糊将不发生。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 平版印刷 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光敏平版印刷版，在所述光敏平版印刷版处，涂层形成在支承体上，该涂层将被曝光和显影，其中，在所述光敏平版印刷版的至少一个边缘处形成涂层去除部分，在所述涂层去除部分处，涂层已经通过涂层去除被清除。
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