[发明专利]显影液组合物及其制造方法、和抗蚀图形的形成方法有效

专利信息
申请号: 200680006791.2 申请日: 2006-04-07
公开(公告)号: CN101133366A 公开(公告)日: 2008-02-27
发明(设计)人: 石川薰;三隅浩一;斋藤宏二 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可以形成良好的厚膜抗蚀图形、且起泡少的显影液组合物。该显影液组合物,其是用于在支承体上形成厚膜抗蚀图形的显影液组合物,其中,含有作为主剂的有机季铵盐基、用下述通式(I)表示的阴离子型表面活性剂、和从硅酮系消泡剂、醇系消泡剂及非离子表面活性剂系消泡剂中选择的消泡剂。(I)式中的R1是碳数为5~18的烷基或烷氧基,a是1或2;R2、R3是独立的磺酸铵基、磺酸取代铵基或下述通式(II)表示的基团,b是0或1~3的整数;c是1~3的整数。(II)式中M是金属原子。
搜索关键词: 显影液 组合 及其 制造 方法 图形 形成
【主权项】:
1.一种显影液组合物,其是用于在支承体上形成厚膜抗蚀图形的显影液组合物,其中,含有:作为主剂的有机季铵盐基,用下述通式(I)表示的阴离子型表面活性剂,和从硅酮系消泡剂、醇系消泡剂以及非离子表面活性剂系消泡剂构成的组中选择的消泡剂;[化1](I)式中的R1是碳数为5~18的烷基或烷氧基,a是1或2;R2是磺酸铵基、磺酸取代铵基、或用下述通式(II)表示的基团,b是0或1~3的整数;R3是磺酸铵基、磺酸取代铵基、或用下述通式(II)表示的基团,c是1~3的整数;还有,当R1存在多个时,它们彼此间既可以相同也可以不同,当R2存在多个时,它们彼此间既可以相同也可以不同,当R3存在多个时,它们彼此间既可以相同也可以不同,[化2]-SO3M  ···(II)(II)式中,M是金属原子。
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