[发明专利]微波等离子体处理装置无效
| 申请号： | 200680007051.0 | 申请日： | 2006-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN101133688A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 田才忠;石桥清隆;野泽俊久;山本伸彦 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/511;H01L21/205;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是一种微波等离子体处理装置，其包括：收容待处理物体的腔室；将处理气体供应到腔室中的处理气体供应单元；产生微波的微波发生源，该微波用于在腔室中形成处理气体的等离子体；将微波发生源所产生的微波导向腔室的波导单元；由导体材料制成的平面天线，其设置有用于将波导单元所引导的微波向腔室辐射的多个微波辐射孔；由介电材料制成的微波透射板，该微波透射板用作腔室的顶壁并透射已经穿过平面天线的微波辐射孔的微波；以及布置于平面天线的相对于微波透射板的相反侧上的慢波板，该慢波板具有缩短到达平面天线的微波的波长的功能。平面天线和微波透射板彼此接触，在它们之间基本上没有空气，慢波板和微波透射板由相同材料制成，并且由慢波板、平面天线、微波透射板和腔室中形成的处理气体的等离子体形成的等效电路满足谐振条件。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种微波等离子体处理装置，包括：腔室，其收容待处理物体；处理气体供应单元，其将处理气体供应到所述腔室中；产生微波的微波发生源，所述微波用于在所述腔室中形成所述处理气体的等离子体；波导单元，其将所述微波发生源所产生的所述微波导向所述腔室；由导体材料制成的平面天线，其设置有用于将所述波导单元所引导的所述微波向所述腔室辐射的多个微波辐射孔；由介电材料制成的微波透射板，所述微波透射板用作所述腔室的顶壁并透射已经穿过所述平面天线的所述微波辐射孔的微波；以及布置于所述平面天线的相对于所述微波透射板的相反侧上的慢波板，所述慢波板具有缩短到达所述平面天线的微波的波长的功能；其中所述平面天线和所述微波透射板彼此接触，在它们之间基本上没有空气，所述慢波板和所述微波透射板由相同材料制成，并且由所述慢波板、所述平面天线、所述微波透射板和所述腔室中形成的所述处理气体的等离子体形成的等效电路满足谐振条件。
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