[发明专利]可记录光学记录介质及其制造方法无效
申请号: | 200680007574.5 | 申请日: | 2006-11-16 |
公开(公告)号: | CN101138034A | 公开(公告)日: | 2008-03-05 |
发明(设计)人: | 佐飞裕一;池田悦郎;高瀬史则 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/0045;G11B7/243;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/26 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 彭久云;马高平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了一种可记录光学记录介质,其具有优秀的记录和再现特性和可制造性,并且能够降低制造成本。特别公开了,该可记录光学记录介质(10)具有这样的结构,其中无机记录膜(6)、介电膜(4)和光传输层(5)已经依次形成在基板(1)上。无机记录膜(6)由依次形成在基板(1)上的金属膜(2)和氧化膜(3)组成。当光辐射到无机记录膜(6)时,由于光的催化作用从氧化膜(3)分离出氧,导致在金属膜(2)侧氧浓度的增加,并且大大地改变了光学常数。 | ||
搜索关键词: | 记录 光学 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有无机记录膜的一次写入型光学记录介质,其中该无机记录膜具有:氧化膜,由Ge的氧化物制造;和相邻膜,设置成与该氧化膜接触且由金属材料制造,并且其中该氧化膜的吸收系数k的范围为0.15≤k≤0.90。
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