[发明专利]用于原位合成毫微粒阵列的系统和方法无效
| 申请号： | 200680007867.3 | 申请日： | 2006-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101137936A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | J·J·卡特格纳德赫苏斯 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;王小衡 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于原位形成毫微粒(520)的方法包括：将来自打印头的第一毫微粒反应物(160，300，304，308)沉积到期望的衬底(170)上；并且将来自所述打印头的第二毫微粒反应物(160，300，304，308)基本上沉积到所述第一反应物(160，300，304，308)上，其中所述第一毫微粒反应物(160，300，304，308)被配置为与所述第二毫微粒反应物(160，300，304，308)反应以形成毫微粒(520)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 原位 合成 微粒 阵列 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于原位形成毫微粒(520)的方法，包括：将来自打印头的第一毫微粒反应物(160，300，304，308)沉积到期望的衬底(170)上；并且将来自所述打印头的第二毫微粒反应物(160，300，304，308)基本上沉积到所述第一反应物(160，300，304，308)上；其中所述第一毫微粒反应物(160，300，304，308)被配置为与所述第二毫微粒反应物(160，300，304，308)反应以形成毫微粒(520)。
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