[发明专利]等离子掺杂方法和等离子处理装置

摘要

本发明的目的是提供在导入到样品的表面的杂质的浓度均匀性方面优秀的等离子掺杂方法，和能均匀地进行样品的等离子处理的等离子处理装置。在根据本发明的等离子掺杂装置中，用作为排放装置的涡轮分子泵(3)经由排气口11将真空室(1)抽空，同时从气体供应装置(2)导入预定的气体，以使用调压阀(4)使真空室(1)的内部保持预定的压力。13.56MHz的高频电由高频电源(5)供应到线圈(8)，以在真空室(1)内产生感应耦合等离子体，所述线圈设置在与样品电极(6)相对的介电窗(7)的附近。将高频电供应到样品电极(6)的高频电源(10)被设置。通过驱动活门(18)和盖住贯通门(16)，处理的均匀性得到增强。

主权项

1.一种等离子掺杂方法，包括以下步骤：经由真空室的贯通门将样品传送到真空室内；将所述样品安放在所述真空室内的样品电极上；将所述真空室的内部排空，同时使气体几乎各向同性地从与所述样品相对的表面流向朝所述样品；在所述真空室内产生等离子体，同时将所述真空室内部控制在预定的压力；和使所述等离子体内的杂质离子与所述样品的表面碰撞，以把所述杂质离子导入所述样品的表面；其中贯通门在所述等离子体产生时被活门覆盖。