[发明专利]改性基材及改性基材的制造方法有效
申请号: | 200680010447.0 | 申请日: | 2006-03-28 |
公开(公告)号: | CN101151303A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
发明(设计)人: | 荒木美帆;上野良之;菅谷博之 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | C08J7/00 | 分类号: | C08J7/00;A61L31/00;A61L33/00;A61M1/18;B01D65/02;B01D69/08;B01D71/40;D06M10/00;D06M13/144;D06M101/26 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的特征为,在材料的构成成分中含有在主链或侧链上含有酯基、且具有疏水基的聚合物。特别是通过在一元醇水溶液、或者、对于单体或其聚合物单元在结合有羟基的碳间具有1个以上的碳原子的二元以上的醇水溶液,与在主链或侧链上含有酯基的聚合物接触的状态下进行放射线照射,可引入疏水基。 | ||
搜索关键词: | 改性 基材 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种改性基材的制造方法,其特征在于,在一元醇水溶液、或者、对于单体或其聚合物单元在结合有羟基的碳间具有1个以上的碳原子的二元以上、且分子量小于2000的醇水溶液与基材接触的状态下,对基材进行放射线照射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社,未经东丽株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680010447.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于便携终端的内建天线
- 下一篇:聚合物电解质二次电池