[发明专利]用于离子束均匀性的栅格透明度和栅格孔图案控制有效
| 申请号： | 200680010822.1 | 申请日： | 2006-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101495981A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | 龟山育也;丹尼尔·E·西格弗里德 | 申请（专利权）人： | 威科仪器有限公司 |
| 主分类号： | G06F15/00 | 分类号： | G06F15/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;李丙林 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于改变离子束栅格中的孔位置或尺寸或两者的设计方法，包括确定待被更改的控制栅格；获得用于栅格图案的变化系数；以及利用该变化系数来产生新的栅格图案。变化系数是孔位置变化系数或孔直径变化系数中的一个或两个。该设计方法还包括离子束栅格，所述离子束栅格具有由控制栅格孔位置或尺寸或两者的变化系数的改变所限定的孔位置或尺寸或两者的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子束 均匀 栅格 透明度 图案 控制 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生束栅格图案的设计方法，包括：确定待被更改的控制栅格图案；获得用于所述栅格图案的变化系数；利用所述变化系数来产生新栅格图案。
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