[发明专利]复合结构物的制造方法、除杂处理设备、成膜设备、复合结构物和原料粉末无效
| 申请号： | 200680014967.9 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101171369A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 三好哲 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C23C24/04 | 分类号： | C23C24/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种根据AD法来形成膜的成膜设备，其中，当对基底上形成的膜进行热处理时膜的分离或者隆起的形成受到抑制。所述成膜设备包括：气溶胶生成单元(1－4)，用于将原料粉末(20)用气体分散，从而使原料粉末(20)气溶胶化；处理单元(6)，用于对通过气溶胶生成单元(1－4)产生的气溶胶化的原料粉末(20)进行处理，以便减少原料粉末(20)所附着的或者含有的杂质的量，其中所述杂质能够通过加热而生成气体；以及喷射嘴(9)，用于将经处理单元(6)处理的气溶胶化的原料粉末(20)喷向基底(30)，从而使原料粉末(20)沉积在基底(30)上。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 结构 制造 方法 杂处 设备 原料 粉末 | ||
【主权项】：
1.一种复合结构物的制造方法，该制造方法包括以下步骤：(a)将由无机材料形成的原料粉末(20)用气体分散，由此使该原料粉末(20)气溶胶化；(b)对所述原料粉末(20)进行处理，从而减少所述原料粉末(20)所附着的或者所包含的杂质的量，所述杂质通过加热会产生气体；以及(c)将所述气溶胶化的原料粉末(20)喷向基底(30)从而使所述原料粉末(20)与下面的层碰撞，由此发生颗粒结合，进而使所述原料粉末(20)沉积并直接或间接在所述的基底(30)上形成多晶结构物(40)，其中所述颗粒具有在碰撞时由于所述原料粉末(20)的变形和/或破碎而新形成的活性表面。
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