[发明专利]用于制造或再加工溅射靶和X-射线阳极的涂覆方法有效

专利信息
申请号: 200680015339.2 申请日: 2006-04-28
公开(公告)号: CN101287857A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: S·齐默尔曼;U·帕普;H·凯勒;S·A·米勒 申请(专利权)人: H.C.施塔克有限公司;H.C.施塔克公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C24/04;H01J35/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 项丹
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 公开了一种再加工或生产溅射靶或X-射线阳极的方法,其中,气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的两种或多种的混合物、以及它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体/粉末混合物,所述粉末的粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将超音速的喷射口导向要再加工或生产的物体的表面。
搜索关键词: 用于 制造 再加 溅射 射线 阳极 方法
【主权项】:
1.一种再加工或制造溅射靶或X-射线阳极的方法,其中,气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的两种或多种的混合物、以及它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体/粉末混合物,所述粉末的粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将该超音速的喷射口导向要再加工或制造的物体的表面。
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