[发明专利]电致发光元件中的荧光体膜形成用高强度溅射靶有效
| 申请号： | 200680015567.X | 申请日： | 2006-05-01 |
| 公开（公告）号： | CN101171364A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 张守斌;小见山昌三;三岛昭史 | 申请（专利权）人： | 三菱麻铁里亚尔株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C09K11/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在大气中长时间放置，仍能够维持高强度的电致发光元件中的荧光体膜形成用溅射靶。其具有：Al：20～50质量％、Eu：1～10质量％、其余部分为Ba和不可避免杂质而成的组成，且具有固溶了Eu的Ba和Al的金属间化合物相构成的组织，所述固溶了Eu的Ba和Al的金属间化合物相是由BaAl4金属间化合物相与Ba7Al13金属间化合物相构成，且Eu分别固溶于所述BaAl4金属间化合物与Ba7Al13金属间化合物中的Ba的金属间化合物相。 | ||
| 搜索关键词： | 电致发光 元件 中的 荧光 形成 强度 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种电致发光元件中荧光体膜形成用高强度溅射靶，其特征在于，具有含有Al：20～50质量％、Eu：1～10质量％、其余部分为Ba和不可避免的杂质的组成，并具有由固溶了Eu的Ba和Al的金属间化合物相构成的组织。
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