[发明专利]计算机可读的掩模收缩控制处理器有效
| 申请号： | 200680015843.2 | 申请日： | 2006-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN101171545A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | S·M·R·萨贾迪;尼古拉斯·布赖特 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种包括计算机可读介质的装置。计算机可读介质包括用于接收特征布图的计算机可读代码以及在特征布图上应用收缩修正的计算机可读代码。用于应用收缩修正的计算机可读代码包括提供拐角切口、调整线宽度和长度、形状修改等，以用于在图案化的层中形成特征。 | ||
| 搜索关键词： | 计算机 可读 收缩 控制 处理器 | ||
【主权项】：
1.一种包括计算机可读介质的装置，包括：用于接收特征布图的计算机可读代码；以及用于对所述特征布图应用收缩修正的计算机可读代码。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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