[发明专利]混合微透镜的制造方法无效
| 申请号： | 200680016742.7 | 申请日： | 2006-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN101176030A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 黄喆珍;金锺鲜;高荣培;许英茂 | 申请（专利权）人： | 韩国生产技术研究院 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种混合微透镜的制造方法，利用半导体回流处理制造导光板的混合微透镜的该方法包括：第一步骤，将掩模对准在涂覆有光刻胶的基板上，其中该掩模形成有可透射光的第一区域和多个不可透射光的第二区域，并且这些第二区域具有不同的尺寸和形状以形成混合阵列；第二步骤，以这样的方式进行至少一次倾斜曝光和垂直曝光，即，从形成混合阵列的第二区域的顶部向底部辐射的光在至少一个方向上具有非对称倾斜角；第三步骤，使倾斜曝光过的基板显影，以得到具有各种尺寸和形状的混合光刻胶柱；第四步骤，进行回流处理以使混合光刻胶柱弯曲，从而可得到混合微透镜图案；第五步骤，制造其中刻有凹型混合微透镜图案的凹压模；以及第六步骤，通过使用凹压模作为模具形成导光板，从而可在该导光板中形成凸图案形式的混合微透镜图案。 | ||
| 搜索关键词： | 混合 透镜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用半导体回流处理制造导光板的混合微透镜的方法，该方法包括：第一步骤，在该第一步骤将掩模对准在涂覆有光刻胶的基板上，该掩模形成有可透射光的第一区域和多个不可透射光的第二区域，这些第二区域具有不同的尺寸和形状以形成混合阵列；第二步骤，在该第二步骤以这样的方式进行至少一次倾斜曝光和垂直曝光，即：从形成所述混合阵列的所述第二区域的顶部向底部辐射的光在至少一个方向上具有非对称倾斜角；第三步骤，在该第三步骤使倾斜曝光过的基板显影，以得到具有各种尺寸和形状的混合光刻胶柱；第四步骤，在该第四步骤进行回流处理，以使所述混合光刻胶柱弯曲，从而可得到混合微透镜图案；第五步骤，在该第五步骤制造其中刻有凹型混合微透镜图案的凹压模；以及第六步骤，在该第六步骤通过使用所述凹压模作为模具形成导光板，从而可在该导光板中形成凸图案形式的混合微透镜图案。
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