[发明专利]光致抗蚀剂用聚合性化合物、其聚合物以及含有该聚合物的光致抗蚀剂组合物无效
申请号: | 200680017257.1 | 申请日: | 2006-05-15 |
公开(公告)号: | CN101180324A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 畠山直良;伊藤克树;大野英俊;松本信昭 | 申请(专利权)人: | 出光兴产株式会社 |
主分类号: | C08F20/28 | 分类号: | C08F20/28;C08F20/54;C08F32/08;C08F38/00;G03F7/039 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴娟;李平英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供由通式(1)或(19)所示的具有脂环式结构和聚合性基团的聚合性化合物、其聚合物和该聚合性化合物的制备方法以及含有该聚合物的光致抗蚀剂组合物,所述聚合性化合物显示高的基板粘合性、显影时的膨胀降低、且在水中曝光时的吸水量低、抗干蚀性高。 | ||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂用 聚合 化合物 聚合物 以及 含有 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.通式(1)所示的聚合性化合物,其特征在于:具有脂环式结构和聚合性基团:式中,A表示选自式(2)、(3)和(4)所示基团的聚合性基团,多个A相同或不同,CH2=CRO-* CH≡C-*(2) (3)式中,R0表示氢原子、氟原子、甲基、乙基或三氟甲基;K表示选自式(5)、(6)、(7)、(8)和(9)所示基团的连接基团,多个K相同或不同,式中,R1、R2、R3、R4和R5表示氢原子、可以包含杂原子的碳数为1~10的烷基或卤素原子,k和l表示0~10的整数,X1和X2表示氧原子、硫原子和NH基,*表示聚合性基团一侧或末端基团一侧,**表示脂环式基团一侧;L表示选自通式(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)和(16)所示基团的脂环式基团,式中,Y、Y1和Y2表示氢原子、碳数为1~10的烷基、卤素原子、羟基、巯基、甲基氰基或两个Y、两个Y1和两个Y2分别一起形成的=O或=S,多个Y、多个Y1和多个Y2分别相同或不同,m和n表示0~15的整数;Z表示选自式(17)和(18)所示基团的末端基团,多个Z相同或不同,*-X3 *-R7(17) (18)式中,R7表示碳数为1~30的烷基或碳数为5~30的环烷基,其部分结构上可以包含下述基团:杂原子、羟基、巯基、醚基、硫醚基、氰基、酮基、硫酮基、酮缩醇基、酮缩硫醇基、缩醛基、硫缩醛基、内酯基、硫代内酯基、碳酸酯基、硫代碳酸酯基、胺基、酰胺基、烷基磺酰基、酯基、硫代酯基,X3表示氢原子、羟基、巯基、氨基、PO3、硝基、OSO2CH3、SSO2CH3、NHSO2CH3,α表示1以上的整数,β和γ表示0以上的整数,δ表示1~16的整数,条件是结构中含有一个以上的A和Z。
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