[发明专利]光散射盘、其用途以及波阵面测量设备无效
申请号: | 200680018511.X | 申请日: | 2006-05-23 |
公开(公告)号: | CN101223459A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | U·韦格曼 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G02B3/12;G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢江;刘春元 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 1.光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。2.1.本发明涉及一种光学散射盘,包括透明基底(1)和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2),该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。2.2.依据本发明,光散射层具有较空气更为光密集的并邻接基底的衬面的包埋介质(4),并且该包埋介质将包围光散射活性颗粒。2.3.借助横向切变干涉仪将其用于例如用来测量大孔径显微光刻投影物镜的波阵面的设备中。 | ||
搜索关键词: | 散射 用途 以及 波阵面 测量 设备 | ||
【主权项】:
1.光学散射盘,包括:-透明基底(1)以及-与基底表面相邻接并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2),其中-光散射层(2),该光散射层(2)具有较空气更为光学密集并表面地邻接基底(1)的衬面的包埋介质(4),并且包埋介质(4)还包围光散射活性颗粒(3)。
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