[发明专利]使用光导平板并基于电润湿效应的发光设备无效
申请号: | 200680018634.3 | 申请日: | 2006-05-12 |
公开(公告)号: | CN101184953A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | J·马拉;D·K·G·德博尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | F21V8/00 | 分类号: | F21V8/00;G02B6/00;G02F1/13357;G09F9/37;G02B26/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李静岚;谭祐祥 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种发光设备,其中借助于全内反射而将输入耦合光流至少部分地约束在光导平板(4)内部。该设备包括用于实现从光导平板的输出表面(6)选择性地局部输出光的装置,使得可在其输出表面区域上局部地控制光导输出的光流的强度。这通过邻接输出表面的多个封闭小室来实现。每个小室包含液体单元(11),可通过电润湿来操纵其形式,使得可让液体单元(6)更大程度或更小程度地与输出表面的局部区域进行光学接触或脱离光学接触,由此改变通过它的局部输出耦合光流的强度。可由光导平板(4)、支撑平板(8)以及横壁部分(9,10)构造小室。支撑平板(8)可包含与光导平板(4)平行放置的疏水玻璃板。 | ||
搜索关键词: | 使用 平板 基于 润湿 效应 发光 设备 | ||
【主权项】:
1.一种发光设备,包括:光导平板(4),具有第一和第二主表面(5,6),被布置为从至少一个光源接收光并借助于全内反射至少部分地将所述光约束在其中,以及至少一个局部输出耦合设备,被布置为通过减少所述第二主表面(6)的局部区域处的折射率下降来选择性地从所述区域中提取光,其中所述局部输出耦合设备包括:小室,邻接于所述第二主表面,并包含第一和第二不可融合介质(11,12),第一介质(11)是液体,第二介质(12)具有比第一介质更低的折射率,以及电极布置(19,21,22),其被布置为选择性地改变在第一和第二介质之间的界面的形状,使得在第一状态下,第二介质(12)基本上覆盖所述局部区域中的第二主表面(6)以便防止第一介质(11)和第二主表面(6)之间的局部光学接触,而在第二状态下,第一介质(11)在所述局部区域处与第二主表面(6)光学接触并使得从光导平板(4)输出耦合的光通过其。
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