[发明专利]临界尺寸减小及粗糙度控制

摘要

提供了一种用于在蚀刻层形成特征的方法。光刻胶层在蚀刻层上形成。光刻胶层被图案化，以形成带有光刻胶侧壁的光刻胶特征。控制层在光刻胶层以及光刻胶特征底部上形成。共形层沉积在光刻胶特征的侧壁以及控制层上，以减小光刻胶特征的临界尺寸。利用控制层突破化学成分，在控制层打开开口。利用蚀刻化学成分将特征蚀刻入蚀刻层中，该蚀刻化学成分不同于控制层突破化学成分，其中，控制层比共形层更加抗蚀利用蚀刻化学成分的蚀刻。

主权项

1.一种用于在蚀刻层中形成特征的方法，包括：在所述蚀刻层上形成光刻胶层；图案化所述光刻胶层，以形成具有光刻胶侧壁的光刻胶特征，其中所述光刻胶特征具有第一临界尺寸；在所述光刻胶层和所述光刻胶特征底部上形成控制层；在所述光刻胶特征的所述侧壁和控制层上沉积共形层，以减小所述光刻胶特征的所述临界尺寸；利用控制层突破化学成分在所述控制层中突破开口；以及利用蚀刻化学成分将特征蚀刻入所述蚀刻层中，所述蚀刻化学成分不同于所述控制层突破化学成分，其中，所述蚀刻层特征具有第二临界尺寸，所述第二临界尺寸小于所述第一临界尺寸，并且其中，所述控制层比所述共形层更加抗蚀利用所述蚀刻化学成分的所述蚀刻。