[发明专利]用于提高平坦化的聚合物抑制剂有效
| 申请号： | 200680019115.9 | 申请日： | 2006-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101184817A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 艾萨克·谢里安;周仁杰;史蒂文·格鲁宾;张剑 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321;B01F17/00;C08G65/332 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种包含抛光组分、表面活性剂和液体载体的化学机械抛光系统。本发明进一步提供一种用该抛光系统对基板进行化学机械抛光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提高 平坦 聚合物 抑制剂 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光系统，其包含：(a)选自抛光垫、研磨剂及其组合的抛光组分，(b)包含至少一个唑基的表面活性剂，其中该表面活性剂不是聚乙烯基咪唑，并且其中该表面活性剂不包含环酰亚胺基团或不同时包含侧链酰胺基和酯基，以及(c)液体载体。
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