[发明专利]新颖的聚硅氧烷遮光剂有效

专利信息
申请号: 200680019464.0 申请日: 2006-05-23
公开(公告)号: CN101189045A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 卡特加·比格-舒尔茨;亚历山大·波斯卡罗;于尔根·H·沃勒哈特 申请(专利权)人: 帝斯曼知识产权资产管理有限公司
主分类号: A61Q17/04 分类号: A61Q17/04;A61K8/897;C08G77/26;C08G77/16;C08G77/388
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 李剑
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及以聚硅氧烷为基础的新颖的遮光剂、它们的制备及用途,特别是在用于防护阳光的有害效应的配方中。
搜索关键词: 新颖 聚硅氧烷 遮光
【主权项】:
1.聚硅氧烷,其特征在于,每个分子中具有以下结构单元:一个式(H3C)3-Si- (I)的单元;一个式-O-Si(CH3)3 (II)的单元;至少两个选自(A)、(B)、(C)和(D)组的单元,其中(A)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式-O-Si(CH3)[CH(CH3)R1]- (IIIa)、-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R1)- (IIIb)、-O-Si(CH3)[C(=CH2)R1]- (IIIc),和-O-Si(CH3)(CH=CH-R1)- (IIId),(B)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式-O-Si(CH3)[CH(CH3)R2]- (IVa)、-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R2)- (IVb)、-O-Si(CH3)[C(=CH2)R2]- (IVc),和-O-Si(CH3)(CH=CH-R2)- (IVd),(C)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式-O-Si(CH3)[CH(CH3)R3]- (Va)、-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R3)- (Vb)、-O-Si(CH3)[C(=CH2)R3]- (Vc),和-O-Si(CH3)(CH=CH-R3)- (Vd),(D)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式-O-Si(CH3)[CH(CH3)R4]- (VIa)、-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R4)- (VIb)、-O-Si(CH3)[C(=CH2)R4]- (VIc),和-O-Si(CH3)(CH=CH-R4)- (VId);1-200个,优选地5到80个以任意顺序的式-O-Si(CH3)2-(VII)的单元和任选地1-20个以任意顺序的式-O-SiH(CH3)-(VIII)的单元,其中:R1为UV-B光吸收基团,R2为UV-A光吸收基团,R3为UV-C光吸收基团,和R4为宽带光吸收基团;附带条件是存在至少两个属于(A)、(B)、(C)和(D)这些不同组的单元。
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