[发明专利]使用电化学合成在图案化晶片上制造聚合物阵列的方法和装置有效
| 申请号： | 200680019994.5 | 申请日： | 2006-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN101257966A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | G·霍尔特;B·巴尼特;V·迪宾;F·格瑟特莱恩 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | B01J19/00 | 分类号： | B01J19/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶片，在该晶片上具有多个芯片(也被称为阵列芯片)，该芯片具有一个用于产生一种脱保护试剂的电极、一个用于电化学合成一种材料的工作电极、一个邻近于该工作电极的用于限制反应试剂的限制电极、和一个芯片基座，其中，该多个芯片的芯片基座在该晶片上是相互连接的以在多个工作电极上电化学的平行合成该材料。此外，也公开了一种用于多个芯片的晶片规模制造的方法和一种用于在晶片上的多个芯片上通过电化学方式平行合成一种材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 电化学 合成 图案 晶片 制造 聚合物 阵列 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种晶片，其包括在所述晶片上的多个芯片和互连线，其中所述多个芯片的芯片基座是通过所述互连线而相互连接的以在所述多个芯片的多个工作电极上实施化学反应。
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