[发明专利]流体摩擦式离合器有效

专利信息
申请号: 200680020033.6 申请日: 2006-02-17
公开(公告)号: CN101189445A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: T·布赫霍尔茨 申请(专利权)人: 博格华纳公司
主分类号: F16D35/02 分类号: F16D35/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曹若
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种流体摩擦式离合器,具有一个壳体(10,18)并具有一个离合器片(32),该离合器片安排为相对于该壳体(10,18)可旋转并且在旋转意义上固定地安排在一根轴(34)的一端上,该轴安装在该壳体内中心处,该轴(34)在其另一端处支撑由该离合器驱动的一个主动元件,其中,能够由离合器流体加压的一个工作室(30)形成于该壳体(10,18)与该离合器片(32)之间,它具有形成在该壳体(10,18)中的用于该离合器流体的一个储液室(20)、并具有从所述储液室(20)通向该工作室(30)的一条供应管道(22),还具有用于使该离合器流体从该工作室(30)返回到该储液室(20)中的一个反向泵送系统,其中,在该供应管道(22)中安排了用于控制供应到该工作室(30)中的离合器流体的一个阀门安排。为了能够在所有条件下以一种可靠的方式维持一个预定标称旋转速度,根据本发明提出将该壳体(10、18)连接于一个驱动元件(12),安排成可相对于一个静止的离合器部分(16)旋转并形成该离合器的初级侧,其中,当该从动壳体(10、18)旋转时,从该储液室(20)流出的离合器流体穿过从该储液室大体径向朝外延伸的该供应管道(22)进入该工作室(30)中,并且在于该壳体(10、18)与该离合器片(32)的外缘之间形成有一个径向间隙,并且还在于该反向泵送系统包括用于该离合器流体的一个刮擦元件(38),该刮擦元件被安排在该静止的离合器部分(16)的该离合器片(32)背对该工作室(30)的一侧上,该刮擦元件(38)具有与该储液室(20)流体流体相通的一个管道(40)。
搜索关键词: 流体 摩擦 离合器
【主权项】:
1.一种流体摩擦式离合器,具有一个壳体(10,18)并具有一个离合器片(32),该离合器片安排为相对于该壳体(10,18)可旋转并且在旋转意义上固定地安排在一根轴(34)的一端上,该轴安装在该壳体内中心处,该轴(34)在其另一端处支撑由该离合器驱动的一个主动元件,其中,能够由离合器流体加压的一个工作室(30)形成于该壳体(10,18)与该离合器片(32)之间,它具有形成在该壳体(10,18)中的用于该离合器流体的一个储液室(20)、并具有从所述储液室(20)通向该工作室(30)的一条供应管道(22),还具有用于使该离合器流体从该工作室(30)返回到该储液室(20)中的一个反向泵送系统,其中,在该供应管道(22)中安排了用于控制供应到该工作室(30)中的离合器流体的一个阀门安排,其特征在于,该壳体(10、18)连接于一个驱动元件(12),安排成可相对于一个静止的离合器部分(16)旋转并形成该离合器的初级侧,其中,当该从动壳体(10、18)旋转时,从该储液室(20)流出的离合器流体穿过从该储液室大体径向朝外延伸的该供应管道(22)进入该工作室(30)中,并且在于该壳体(10、18)与该离合器片(32)的外缘之间形成有一个径向间隙,并且还在于该反向泵送系统包括用于该离合器流体的一个刮擦元件(38),该刮擦元件被安排在该静止的离合器部分(16)的该离合器片(32)背对该工作室(30)的一侧上,该刮擦元件(38)具有与该储液室(20)流体流体相通的一个管道(40)。
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