[发明专利]曝光装置无效
| 申请号： | 200680020343.8 | 申请日： | 2006-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101194209A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 福田刚志;福井隆史;冈崎洋二 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够对由选择性地调制多个像素的装置侧所射出的各射束进行曝光描绘时的描绘像素位置加以修正，并能以高精度进行描绘的、构成简单且廉价的曝光装置。基于控制单元的存储器中存储的、至少在修正中需要的与规定描绘像素的扫描位置所对应的描绘像素位置的轨迹相关的修正用数据，调整对各描绘像素分配的图像，在将根据调整后的数据有选择地对曝光头中设置的多个描绘像素进行调制的装置所射出的各光束，向台上载置的被曝光部件上照射的状态下，使台与曝光头相对移动，以规定的图案进行扫描曝光，从而获得规定的描绘形状。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，包括：曝光头，其在将根据图像数据选择性地对曝光头中设置的多个描绘像素进行调制的装置所射出的各光束，向台上载置的被曝光部件上照射的状态下，使所述台与所述曝光头相对移动，以规定的图案进行曝光；控制单元，其在存储器中存储了至少在修正中需要的与规定描绘像素的扫描位置所对应的描绘像素位置的轨迹相关的修正用数据；和描绘位置修正部，其根据所述控制单元中存储的所述修正用数据，调整对所述各描绘像素分配的图像，来获得规定的描绘形状。
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