[发明专利]曝光方法和曝光装置有效
| 申请号： | 200680020369.2 | 申请日： | 2006-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101194210A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 桥本博信;高木俊博;三宅健 | 申请（专利权）人： | 三荣技研股份有限公司;新光电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G01B11/00;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种将光掩模上描绘的图案转印到基板上的曝光方法和曝光装置。将光掩模配置在覆盖基板的位置。形成光掩模和基板相互均匀地接触，并且光掩模和基板相对于各自变形为凹状或凸状的状态。在该状态下，通过光掩模对基板上的感光层照射光，由此将尺寸实质上已变化的图案转印到基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，将描绘有图案的光掩模配置在表面形成有感光层的基板的覆盖感光层的位置，使所述光掩模和所述基板相互均匀地接触后，通过所述光掩模对所述基板的所述感光层照射光，由此将所述图案转印到所述基板上，其特征在于：在所述光掩模和所述基板相互均匀地接触且所述光掩模和所述基板相对于各自变形为凹状或凸状的状态下，通过所述光掩模对所述感光层照射光，由此将尺寸实质上已变化的所述图案转印到所述基板上。
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