[发明专利]具有狭窄导电带线的光学涂层无效
| 申请号： | 200680021043.1 | 申请日： | 2006-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN101379224A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | T·G·胡德;S·W·T·维斯特拉 | 申请（专利权）人： | 南壁技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/12 | 分类号： | C25D1/12;B05D5/12;C25D13/00;B05D1/02;H05K9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李玲 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种具有狭窄导电带线的光学涂层，其中，导电微带(64)形成在一涂敷的或未涂敷的基底(28)上，以获得目标光学特性和目标电气能力的组合。对于涂敷的基底，涂层(100)可在导电微带之前或之后形成。该涂层可以设计成提供反射光中IR的过滤或减小和色移，同时导电微带可用于EMI屏蔽或提供电流承载能力，例如在用作为加热器时。在另一实施例中，导电微带形成在未涂敷的柔性透明基底上并具有小于25微米的宽度，这样，导电微带能够达到其期望的目的，同时保持高的可见光透射性。导电微带可使用种种方法来形成，例如，使用电镀技术或使用喷墨印刷技术。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 狭窄 导电 光学 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种提供光学结构的方法包括：提供一柔性透明的基底；以及在所述基底上形成导电的微带以获得目标的电气特性，所述目标电气特性包括以下诸项中的至少一个，即，提供目标的电磁(EMI)屏蔽和提供一阵列的电流承载元件，至少某些所述导电微带具有小于25微米的宽度，所述宽度平行于所述基底的主表面进行测量，形成的所述导电微带通过所述光学结构能保持至少为70％的高可见光透射性。
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