[发明专利]提供斜角屏蔽流喷射的等离子体弧气炬有效

专利信息
申请号: 200680021824.0 申请日: 2006-04-19
公开(公告)号: CN101204123A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 端正;S·M·里尔伯德;A·D·布兰德特 申请(专利权)人: 海别得公司
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 浦易文
地址: 美国新罕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 这里描述的等离子体弧气炬包括气炬端头,该气炬端头装有改进的喷嘴,这个喷嘴可喷射出斜角的屏蔽流。具体地说,该喷嘴可使流体(例如保护气体)以斜角/锥角撞击流经等离子体弧气炬的离子化的等离子体气体流。这里描述的几个气炬端头包括有圆锥形外部形状的喷嘴,这种形状的喷嘴与具有相配的内部几何形状的屏蔽组合起来而使得形成斜角的流体流。结果,包括这种改进的喷嘴的等离子体弧气炬在使用中的优点是:离子化的等离子体气体流更加稳定,可增强喷嘴的冷却,以及提供防飞渣保护。
搜索关键词: 提供 斜角 屏蔽 喷射 等离子体 弧气炬
【主权项】:
1.一种用于等离子体弧气炬的喷嘴,该喷嘴包括:喷嘴本体,该喷嘴本体包括基本空心的内部部分和基本锥形的外部部分,所述基本锥形的外部部分有喷嘴半锥角,该喷嘴半锥角选自约20度到约60度的第一范围,所述喷嘴本体限定设置在所述喷嘴的端面上的出口喷孔,所述出口喷孔由喷孔直径(D)、喷孔长度(L)、以及喷嘴端面直径(Φ1)所定义,其中,L/D的比值是大于或等于2.4,以及Φ1/D的比值是在约1.9到约2.5的第二范围内。
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