[发明专利]用于铝的化学机械抛光的浆液无效
| 申请号： | 200680023153.1 | 申请日： | 2006-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN101208399A | 公开（公告）日： | 2008-06-25 |
| 发明（设计）人： | A·D·费勒;A·E·米勒 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文描述了用于对基材进行化学机械抛光的浆液的实施方式，所述基材包含宽度小于1微米的铝或铝合金特征。所述浆液包含粒径小于或等于100纳米的沉淀二氧化硅磨料，以及螯合缓冲剂体系，该体系包含柠檬酸和草酸，用来使得所述浆液的pH值约为1.5－4.0。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 浆液 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光浆液，该浆液包含：粒径小于或等于100纳米的沉淀的二氧化硅磨料；以及包含柠檬酸和草酸以使得浆液pH值约为1.5-4.0的螯合缓冲剂体系。
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